正確設(shè)置雷達(dá)液位計(jì)的量程參數(shù)需結(jié)合現(xiàn)場(chǎng)工況和儀表特性，以下是關(guān)鍵步驟與注意事項(xiàng)：

一、量程相關(guān)參數(shù)定義?

低位調(diào)整（空罐高度）?

指雷達(dá)探頭法蘭面至罐底的實(shí)際距離（即罐體總高度），通常對(duì)應(yīng)4mA輸出點(diǎn)。例如罐高12米，則低位設(shè)為12米?。

高位調(diào)整（滿罐高度）?

指探頭至液位的距離（即盲區(qū)以上液面高度），通常對(duì)應(yīng)20mA輸出點(diǎn)。?高位值不可隨意修改?，需與實(shí)際工藝要求的滿量程一致?。

量程設(shè)置（信號(hào)覆蓋范圍）?

需大于實(shí)際測(cè)量范圍（罐高），比低位調(diào)整值大0.5~2米。例如罐高10米，量程可設(shè)為11米或12米，確保雷達(dá)波覆蓋整個(gè)罐體?。

（視頻示例：80G雷達(dá)的量程設(shè)置流程，含高低位參數(shù)調(diào)整演示）

二、設(shè)置流程與規(guī)范?

通用操作步驟?

進(jìn)入基本設(shè)置菜單?

按面板"K"鍵（或?qū)?yīng)菜單鍵）→ 選擇"基本設(shè)置" → 進(jìn)入"高低位調(diào)整"?。

修改低位值?

通過方向鍵移位，數(shù)字鍵修改數(shù)值至罐體實(shí)際高度（?高位值保持默認(rèn)不動(dòng)?）?。

設(shè)定量程范圍?

返回上級(jí)菜單 → 進(jìn)入"量程設(shè)置" → 輸入值需＞低位調(diào)整值（如罐高10米，量程設(shè)11米）?。

確認(rèn)并退出?

按"ENT"保存 → 返回測(cè)量界面驗(yàn)證實(shí)時(shí)液位?。

介質(zhì)類型差異?

液體介質(zhì)?：應(yīng)用類型選"液體"，介電常數(shù)＞10時(shí)無(wú)需特殊調(diào)整?。

固體/低介電介質(zhì)?（如顆粒、油類）：

應(yīng)用類型選"固體"，介電常數(shù)需按實(shí)測(cè)值設(shè)定（＜4時(shí)需優(yōu)化安裝位置）?；

阻尼時(shí)間建議設(shè)為5秒（液體用1~3秒）?。

三、關(guān)鍵參數(shù)優(yōu)化技巧?

盲區(qū)設(shè)置?

自動(dòng)生成無(wú)需修改；若手動(dòng)調(diào)整，大型儲(chǔ)罐建議0.5米，小罐0.3~0.4米?。

虛假回波

通過"虛假回波學(xué)習(xí)"功能，在固定高度（如1米）讓儀表識(shí)別并過濾干擾信號(hào)?。

輸出模式選擇?

按需設(shè)定物位、空高或距離顯示：

料高模式?：顯示實(shí)際物料高度（大多數(shù)場(chǎng)景）?；

空高模式?：顯示液面至罐頂距離。

（操作要點(diǎn)卡片：盲區(qū)設(shè)定規(guī)范/不同介質(zhì)阻尼時(shí)間/輸出模式選擇）

四、常見錯(cuò)誤及解決方案?

量程＜實(shí)際罐高?：

儀表報(bào)錯(cuò)"E14"（無(wú)有效回波），需將量程調(diào)整為＞罐高值?。

高位值誤調(diào)?：

導(dǎo)致4~20mA輸出范圍錯(cuò)誤，應(yīng)保持高位為默認(rèn)值，僅修改低位?。

介電常數(shù)設(shè)置過低?：

低介電介質(zhì)（如丙烷介電常數(shù)＜1.4）需縮短安裝距離或更換高頻雷達(dá)?。

（案例演示：量程過小導(dǎo)致E14報(bào)錯(cuò)的修正操作）

五、注意事項(xiàng)?

安裝驗(yàn)證?

確保探頭垂直向下，避開攪拌器、進(jìn)料管等干擾源?。

定期維護(hù)?

清潔天線冷凝水/粉塵（尤其80GHz高頻雷達(dá)）?。

特殊工況?：

腐蝕性介質(zhì)：設(shè)置安全距離防止探頭腐蝕；

高溫高壓環(huán)境：選用耐受等級(jí)匹配的型號(hào)?。

提示：不同品牌（如E+H、霍尼韋爾）菜單命名可能差異，但核心邏輯一致。設(shè)置后務(wù)必觀察回波曲線，確保主回波峰值顯著且穩(wěn)定?。